
主要技術(shù)指標(biāo):AFM噪聲水平0.3 ,可對云母、石墨原子像成像控制器反饋相應(yīng)時(shí)間:2s,采樣率50MHZ掃描范圍:0.4μm×0.4μm×0.4μm或10μm×10μm×2.5μm TUNAZ:電流測量分辨率~2PA;加放大器~50fA
功能/應(yīng)用范圍:系統(tǒng)包含原子力顯微鏡、電力顯微鏡、表面電勢、電流等微區(qū)測量功能。用于半導(dǎo)體材料的表面微結(jié)構(gòu)及微區(qū)電學(xué)特性測試。
技術(shù)特色:-
主要測試和研究領(lǐng)域:電子/信息技術(shù)
收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn):其它收費(fèi)方式
儀器負(fù)責(zé)人:黃大鳴,陳潔
電話:021-51355420
電子郵件:dmhuang@fudan.edu.cn