
主要技術(shù)指標(biāo):真空< 1X10-9 torr
功能/應(yīng)用范圍:Silicon Molecular Beam Epitaxy System (Riber Eva-32) two-chamber system facilitated with two e-beam sources, B and Sb doping sources, two Sentinal III thickness monitors.主要功能: a.二個室:進(jìn)樣室、生長室。b.二個蒸發(fā)源、一個P型B摻雜源和一個n型Sb摻雜源。c.反射高能電子衍射儀(RHEED)d.由SentinelⅢ控制膜的生長應(yīng)用于硅基低維材料生長
主要測試和研究領(lǐng)域:材料/珠寶首飾